को अधिक चिपचिपापनHPMCहाइड्रोक्सीप्रोपाइल मिथाइल सेलुलोज, पानी अवधारण प्रदर्शन राम्रो।भिस्कोसिटी HPMC प्रदर्शन को एक महत्वपूर्ण मापदण्ड हो।हाल, विभिन्न HPMC निर्माताहरूले HPMC को चिपचिपापन निर्धारण गर्न विभिन्न विधिहरू र उपकरणहरू प्रयोग गर्छन्।मुख्य विधिहरू Haake हो Rotovisko, Hoppler, Ubbelohde र Brookfield, आदि।
एउटै उत्पादनको लागि, विभिन्न विधिहरू द्वारा मापन गरिएको चिपचिपापनको नतिजाहरू धेरै फरक छन्, केहि पनि धेरै भिन्नताहरू छन्।तसर्थ, चिपचिपाहट तुलना गर्दा, यो तापमान, रोटर, आदि सहित एउटै परीक्षण विधि बीचमा गर्नुपर्दछ।
कण आकारको लागि, कण जति राम्रो हुन्छ, पानी अवधारण राम्रो हुन्छ।सेल्युलोज ईथरका ठूला कणहरू पानीसँग सम्पर्कमा पुग्छन्, सतह तुरुन्तै भंग हुन्छ र पानीका अणुहरूलाई प्रवेश गर्न जारी राख्नबाट रोक्नको लागि सामग्री बेराउन जेल बनाउँछ, कहिलेकाहीँ लामो समयसम्म हलचल समान रूपमा भंग गर्न सकिँदैन, हिलो फ्लोकुलेन्ट समाधानको गठन वा। जम्मासेल्युलोज ईथरको घुलनशीलता सेल्युलोज ईथर छनौट गर्ने कारकहरू मध्ये एक हो।मिथाइल सेलुलोज ईथरको उत्कृष्टता पनि महत्त्वपूर्ण प्रदर्शन सूचकांक हो।ड्राई मोर्टारको लागि MC लाई पाउडर, कम पानी सामग्री, र 20% ~ 60% कण आकार 63um भन्दा कमको सूक्ष्मता चाहिन्छ।सूक्ष्मताले घुलनशीलतालाई असर गर्छHPMCहाइड्रोक्सीप्रोपाइल मिथाइल सेलुलोज ईथर।मोटो MC सामान्यतया दानेदार हुन्छ र सजिलै संग बिना पानीमा भंग गर्न सकिन्छ, तर विघटन गति धेरै ढिलो छ, त्यसैले यो सुख्खा मोर्टारमा प्रयोगको लागि उपयुक्त छैन।ड्राई मोर्टारमा, एमसीलाई एग्रीगेट, फाइन फिलर र सिमेन्ट जस्ता सिमेन्टिङ सामग्रीहरूका बीचमा छरिन्छ, र पर्याप्त मात्रामा राम्रो भएको पाउडरले पानीमा मिसाउँदा मिथाइल सेलुलोज ईथरको क्लम्पिङबाट बच्न सक्छ।जब एमसीले एग्लोमेरेट भंग गर्न पानी थप्छ, यसलाई फैलाउन र विघटन गर्न धेरै गाह्रो हुन्छ।मोटो सूक्ष्मता भएको एमसीले फोहोर मात्र होइन, मोर्टारको स्थानीय शक्तिलाई पनि कम गर्छ।जब यस्तो ड्राई मोर्टार ठूलो क्षेत्रमा बनाइन्छ, स्थानीय ड्राई मोर्टारको क्युरिङ स्पीड उल्लेखनीय रूपमा कम हुन्छ, जसले गर्दा विभिन्न क्युरिङ टाइमको कारण क्र्याक हुन्छ।मेकानिकल स्प्रेइङ्ग मोर्टारको लागि, छोटो समयको मिश्रणको कारणले गर्दा, उत्कृष्टता उच्च छ।
सामान्यतया, उच्च चिपचिपापन, राम्रो पानी अवधारण प्रभाव।यद्यपि, चिपचिपाहट जति उच्च हुन्छ, MC को आणविक वजन उच्च हुन्छ, र विघटन कार्यसम्पादन सोही अनुसार घट्नेछ, जसले मोर्टारको बल र निर्माण कार्यमा नकारात्मक प्रभाव पार्छ।चिपचिपापन जति उच्च हुन्छ, मोर्टारको गाढा हुने प्रभाव त्यति नै स्पष्ट हुन्छ, तर यो सम्बन्धसँग समानुपातिक हुँदैन।चिपचिपापन जति उच्च हुन्छ, भिजेको मोर्टार अधिक टाँसिने हुन्छ, दुबै निर्माण, टाँसिने स्क्र्यापरको प्रदर्शन र आधार सामग्रीमा उच्च टाँसिएको हुन्छ।तर भिजेको मोर्टारको संरचनात्मक बल बढाउन यो उपयोगी छैन।निर्माण को समयमा, विरोधी sag प्रदर्शन स्पष्ट छैन।यसको विपरित, केही कम चिपचिपापन तर परिमार्जित मिथाइल सेलुलोज इथरहरूले भिजेको मोर्टारको संरचनात्मक बल सुधार गर्न उत्कृष्ट प्रदर्शन गर्दछ।
मोर्टारमा जति धेरै सेलुलोज ईथर थपिन्छ, पानी रिटेन्सन कार्यसम्पादन जति राम्रो हुन्छ, चिपचिपापन जति उच्च हुन्छ, पानी रिटेन्सन कार्यसम्पादन त्यति नै राम्रो हुन्छ।
HPMC फाइननेसले यसको पानी अवधारणमा पनि निश्चित प्रभाव पार्छ, सामान्यतया भन्नुपर्दा, समान चिपचिपाहट र मिथाइल सेल्युलोज ईथरको फरक फाईनेसको लागि, समान मात्रामा थपिएको अवस्थामा, पानी प्रतिधारण प्रभाव जति राम्रो हुन्छ।
HPMC को पानी अवधारण पनि प्रयोगको तापक्रमसँग सम्बन्धित छ, र मिथाइल सेलुलोज ईथरको पानी अवधारण तापक्रमको वृद्धिसँगै घट्छ।तर वास्तविक सामग्री प्रयोगमा, सुख्खा मोर्टारका धेरै वातावरणहरू प्राय: तातो सब्सट्रेटमा निर्माणको अवस्था अन्तर्गत उच्च तापक्रम (४० डिग्री भन्दा माथि) हुनेछन्, जस्तै बाहिरी पर्खाल पुट्टी प्लास्टरिंगको गर्मी इन्सोलेशन, जसले प्रायः ठोसीकरणलाई गति दिन्छ। सिमेन्ट र सुख्खा मोर्टार कडा।पानीको अवधारण दरमा कमीले निर्माण क्षमता र क्र्याकिङ प्रतिरोध दुवै प्रभावित भएको स्पष्ट महसुस गराउँछ।यस अवस्थामा, तापमान कारकहरूको प्रभाव कम गर्न विशेष गरी महत्वपूर्ण हुन्छ।यद्यपि मिथाइल हाइड्रोक्साइथाइल सेलुलोज ईथरको अतिरिक्तलाई प्राविधिक विकासको अग्रभागमा मानिन्छ, तापक्रममा यसको निर्भरताले अझै पनि सुख्खा मोर्टारको गुणहरूलाई कमजोर बनाउनेछ।मिथाइल हाइड्रोक्साइथाइल सेलुलोज खुराक (गर्मी सूत्र) को वृद्धि संग, निर्माण र क्र्याकिंग प्रतिरोध अझै पनि उपयोग को आवश्यकताहरु लाई पूरा गर्न सक्दैन।MC को केहि विशेष उपचार को माध्यम बाट, जस्तै ईथरिफिकेशन को डिग्री मा वृद्धि, MC को पानी अवधारण प्रभाव उच्च तापमान मा एक राम्रो प्रभाव कायम राख्न सक्छ, ताकि यो कठोर परिस्थिति मा राम्रो प्रदर्शन प्रदान गर्न सक्छ।
पोस्ट समय: मे-18-2022